离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来。停下来的位置是随机的,大部分不在( ),因而没有电活性。
A
四面体间隙
B
晶格上
C
八面体间隙
D
原子核外围
离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来。停下来的位置是随机的,大部分不在( ),因而没有电活性。
A
四面体间隙
B
晶格上
C
八面体间隙
D
原子核外围
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